Π‘ΠΎΠ·Π΄Π°Π½ΠΈΠ΅ собствСнных ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΠ»Π°Ρ‚ (PCB) Π² Π΄ΠΎΠΌΠ°ΡˆΠ½ΠΈΡ… условиях ΠΈΠ»ΠΈ Π² условиях нСбольшого производствСнного Ρ†Π΅Ρ…Π° Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ Π²Ρ‹Π±ΠΎΡ€Π° ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ балансировал Π±Ρ‹ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ качСством Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ, ΡΡ‚ΠΎΠΈΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»ΠΎΠ² ΠΈ Ρ‚Ρ€ΡƒΠ΄ΠΎΠ΅ΠΌΠΊΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ процСсса. ВСхнология, часто ассоциируСмая с ΠΈΠΌΠ΅Π½Π΅ΠΌ Π“.Н. Брусницына, прСдставляСт собой Π°Π΄Π°ΠΏΡ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹ΠΉ для отСчСствСнных условий ΠΈ Π»ΡŽΠ±ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΡΠΊΠΎΠ³ΠΎ сСгмСнта ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄ ΠΊ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠ»ΠΈΡ‚ΠΎΠ³Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ позволяСт Π΄ΠΎΠ±ΠΈΡ‚ΡŒΡΡ точности, сопоставимой с ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹ΠΌΠΈ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Π°ΠΌΠΈ, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡ доступныС Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚Ρ‹.

Π’ ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ ΠΎΡ‚ ΡƒΠΏΡ€ΠΎΡ‰Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½ΠΎ-ΡƒΡ‚ΡŽΠΆΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚ΠΈ (Π›Π£Π’), Π³Π΄Π΅ Π΅ΡΡ‚ΡŒ риск ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π³Ρ€Π΅Π²Π° ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ ΠΈΠ»ΠΈ Π½Π΅ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΠ³ΠΎ пСрСноса Ρ‚ΠΎΠ½Π΅Ρ€Π°, рассматриваСмая тСхнология опираСтся Π½Π° использованиС фотослоя ΠΈ экспонированиС Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΡˆΠ°Π±Π»ΠΎΠ½. Π­Ρ‚ΠΎ обСспСчиваСт Π²Ρ‹ΡΠΎΠΊΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ²Ρ‚ΠΎΡ€ΡΠ΅ΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ рисунка ΠΈ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ изготовлСния ΠΏΠ»Π°Ρ‚ с минимальной ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½ΠΎΠΉ ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄Π½ΠΈΠΊΠΎΠ², Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΊΡ€ΠΈΡ‚ΠΈΡ‡Π½ΠΎ для соврСмСнных SMD-ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ².

ΠšΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π²Ρ‹ΠΌ прСимущСством Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄Π° являСтся Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ создания двусторонних ΠΏΠ»Π°Ρ‚ с высокой Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ совмСщСния слоСв, Ρ‡Ρ‚ΠΎ нСдостиТимо ΠΏΡ€ΠΈ Ρ€ΡƒΡ‡Π½ΠΎΠΉ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΊΠ΅. Π’Ρ‹ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡Π°Π΅Ρ‚Π΅ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ Π½Π°Π΄ ΠΊΠ°ΠΆΠ΄Ρ‹ΠΌ этапом: ΠΎΡ‚ ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠΈ Ρ„ΠΎΠ»ΡŒΠ³ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ тСкстолита Π΄ΠΎ Ρ„ΠΈΠ½Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ луТСния, Ρ‡Ρ‚ΠΎ позволяСт ΠΈΠ·Π±Π΅ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ ошибок, свойствСнных массовому производству Π½ΠΈΠ·ΠΊΠΎΠ³ΠΎ качСства.

ΠŸΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠ° Ρ„ΠΎΠ»ΡŒΠ³ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½ΠΎΠ³ΠΎ основания ΠΈ очистка

ΠŸΠ΅Ρ€Π²Ρ‹ΠΉ ΠΈ, ΠΏΠΎΠΆΠ°Π»ΡƒΠΉ, самый ΠΊΡ€ΠΈΡ‚ΠΈΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ этап β€” это мСханичСская ΠΈ химичСская очистка ΠΌΠ΅Π΄Π½ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΠ»ΡŒΠ³ΠΈ. ΠŸΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Π° Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ идСально чистой, Π±Π΅Π· слСдов ΠΆΠΈΡ€ΠΎΠ², окислов ΠΈ мСханичСских загрязнСний. Π˜ΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½Ρ‹ΠΉ спирт ΠΈΠ»ΠΈ Π°Ρ†Π΅Ρ‚ΠΎΠ½ нСдостаточно для достиТСния Π°Π΄Π³Π΅Π·ΠΈΠΈ фотослоя Π½Π° ΡƒΡ€ΠΎΠ²Π½Π΅, Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅ΠΌΠΎΠΌ для Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΡ… Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ.

НСобходимо ΠΏΡ€ΠΈΠΌΠ΅Π½ΠΈΡ‚ΡŒ Π°Π±Ρ€Π°Π·ΠΈΠ²Π½ΡƒΡŽ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΡƒ с ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌ ΠΎΠ±Π΅Π·ΠΆΠΈΡ€ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Π² Ρ‰Π΅Π»ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠΌ растворС. Часто Ρ€Π΅ΠΊΠΎΠΌΠ΅Π½Π΄ΡƒΡŽΡ‚ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΌΠ΅Π»ΠΊΡƒΡŽ Π½Π°ΠΆΠ΄Π°Ρ‡Π½ΡƒΡŽ Π±ΡƒΠΌΠ°Π³Ρƒ ΠΈΠ»ΠΈ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ пасту, послС Ρ‡Π΅Π³ΠΎ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρƒ ΠΎΠΏΡƒΡΠΊΠ°ΡŽΡ‚ Π² раствор каустичСской соды. Π­Ρ‚ΠΎ удаляСт органичСскиС загрязнСния ΠΈ создаСт ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠΏΠΎΡ€ΠΈΡΡ‚ΡƒΡŽ структуру ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ, Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΡƒΡŽ для Π½Π°Π΄Π΅ΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ сцСплСния.

ПослС обСзТиривания ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ промываСтся дистиллированной Π²ΠΎΠ΄ΠΎΠΉ ΠΈ Π²Ρ‹ΡΡƒΡˆΠΈΠ²Π°Π΅Ρ‚ΡΡ горячим Π²ΠΎΠ·Π΄ΡƒΡ…ΠΎΠΌ. Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ Π½Π΅ ΠΊΠ°ΡΠ°Ρ‚ΡŒΡΡ чистой ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ Ρ€ΡƒΠΊΠ°ΠΌΠΈ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ Π΄Π°ΠΆΠ΅ минимальноС количСство ΠΊΠΎΠΆΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΆΠΈΡ€Π° ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚Π°ΠΌ Π² Π²ΠΈΠ΄Π΅ Β«ΠΏΡ€ΠΎΠ±ΠΎΠ΅Π²Β» Π² Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠ°Ρ… послС травлСния. Если Π²Ρ‹ пропуститС этот этап, фотослой просто отслоится Π² процСссС проявки.

НанСсСниС ΡΠ²Π΅Ρ‚ΠΎΡ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ слоя (Ѐотолитография)

Π‘Π΅Ρ€Π΄Ρ†Π΅ΠΌ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ являСтся нанСсСниС ΡΠ²Π΅Ρ‚ΠΎΡ‡ΡƒΠ²ΡΡ‚Π²ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. Π’ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹ΡˆΠ»Π΅Π½Π½Ρ‹Ρ… условиях это суспСнзионноС Π½Π°ΠΏΡ‹Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅, Π½ΠΎ Π² условиях ΠΌΠ°Π»Ρ‹Ρ… сСрий примСняСтся Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ фотослой ΠΈΠ»ΠΈ ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΈΠΉ фоторСзист. ΠœΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Брусницына часто ΠΏΠΎΠ΄Ρ€Π°Π·ΡƒΠΌΠ΅Π²Π°Π΅Ρ‚ использованиС сухого Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ рСзиста, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ наносится ΠΏΡ€ΠΈ ΠΎΠΏΡ€Π΅Π΄Π΅Π»Π΅Π½Π½ΠΎΠΌ Π΄Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠΈ ΠΈ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π΅.

НанСсСниС Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠΈΡΡ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ Π² условиях ΠΏΠΎΠ½ΠΈΠΆΠ΅Π½Π½ΠΎΠΉ освСщСнности, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ ΠΈΠ·Π±Π΅ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ случайной засвСтки ΠΌΠ°Ρ‚Π΅Ρ€ΠΈΠ°Π»Π°. Π’Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π° ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ ΠΈ фотослоя Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Π° Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ Π²Ρ‹Ρ€ΠΎΠ²Π½Π΅Π½Π°, ΠΈΠ½Π°Ρ‡Π΅ ΠΏΡ€ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΊΡ‚Π΅ Π²ΠΎΠ·Π½ΠΈΠΊΠ½ΡƒΡ‚ Π²ΠΎΠ·Π΄ΡƒΡˆΠ½Ρ‹Π΅ ΠΏΡƒΠ·Ρ‹Ρ€ΡŒΠΊΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ впослСдствии станут ΠΏΡ€ΠΈΡ‡ΠΈΠ½ΠΎΠΉ Π±Ρ€Π°ΠΊΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Ρ… участков. ΠŸΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡ Π½Π°ΠΊΠ°Ρ‚ΠΊΠΈ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ Ρ€ΠΎΠ²Π½ΠΎΠ³ΠΎ усилия ΠΈ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ³ΠΎ Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΠΊΠ° ΠΈΠ»ΠΈ Π»Π°ΠΌΠΈΠ½Π°Ρ†ΠΈΠΈ.

Если ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ ΠΆΠΈΠ΄ΠΊΠΈΠΉ фоторСзист, Ρ‚ΠΎ Π΅Π³ΠΎ наносят ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ цСнтрифугирования ΠΈΠ»ΠΈ напылСния, Ρ‡Ρ‚ΠΎ Ρ‚Ρ€Π΅Π±ΡƒΠ΅Ρ‚ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ слоТного оборудования, Π½ΠΎ Π΄Π°Π΅Ρ‚ идСально Ρ€ΠΎΠ²Π½Ρ‹ΠΉ слой. ΠšΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²ΠΎ нанСсСния Π½Π°ΠΏΡ€ΡΠΌΡƒΡŽ влияСт Π½Π° Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅: Ρ‡Π΅ΠΌ Ρ‚ΠΎΠ½ΡŒΡˆΠ΅ ΠΈ Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½Π΅Π΅ слой, Ρ‚Π΅ΠΌ мСньшС минимальная ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½Π° Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠΈ, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€ΡƒΡŽ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡƒΡ‡ΠΈΡ‚ΡŒ.

πŸ’‘

ΠŸΠ΅Ρ€Π΅Π΄ Π½Π°ΠΊΠ°Ρ‚ΠΊΠΎΠΉ фотослоя ΠΎΠ±ΡΠ·Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Ρ€ΡŒΡ‚Π΅ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ Π½Π° Π½Π°Π»ΠΈΡ‡ΠΈΠ΅ ΠΏΡ‹Π»ΠΈ ΠΏΠΎΠ΄ ярким ΡƒΠ³Π»ΠΎΠΌ свСта, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ Π΄Π°ΠΆΠ΅ микроскопичСская ΠΏΡ‹Π»ΠΈΠ½ΠΊΠ° ΠΏΠΎΠ΄Π»ΠΎΠΆΠΈΡ‚ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ Ρ€Π°Π·ΠΌΠ΅Ρ€ΠΎΠΌ Π² нСсколько дСсятков ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ½.

Π˜Π·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ экспонированиС Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΡˆΠ°Π±Π»ΠΎΠ½Π°

Π‘Π»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰ΠΈΠΌ шагом являСтся созданиС Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΡˆΠ°Π±Π»ΠΎΠ½Π°, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ прСдставляСт собой Π·Π΅Ρ€ΠΊΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ ΠΈΠ·ΠΎΠ±Ρ€Π°ΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π±ΡƒΠ΄ΡƒΡ‰Π΅ΠΉ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρ‹, Π½Π°ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π°Π½Π½ΠΎΠ΅ Π½Π° ΠΏΡ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ‡Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ΅. Для получСния качСствСнных Π»ΠΈΠ½ΠΈΠΉ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ с высоким Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ ΠΈΠ»ΠΈ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚ΡŒ Π½Π° спСциализированной ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ΅. Ошибки Π² прозрачности ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠΈ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄ΡƒΡ‚ ΠΊ ΠΏΡ€ΠΎΠΆΠΈΠ³Π°ΠΌ рСзиста.

ΠŸΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡ экспонирования Π·Π°ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ΡΡ Π² засвСткС фотослоя Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· шаблон ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΎΠ»Π΅Ρ‚ΠΎΠ²Ρ‹ΠΌ источником. Π˜Π½Ρ‚Π΅Π½ΡΠΈΠ²Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ свСта ΠΈ врСмя экспозиции β€” это ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π΅Π²Ρ‹Π΅ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π½Ρ‹Π΅, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΏΠΎΠ΄Π±ΠΈΡ€Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΡΠΊΡΠΏΠ΅Ρ€ΠΈΠΌΠ΅Π½Ρ‚Π°Π»ΡŒΠ½ΠΎ. Блишком короткая экспозиция сдСлаСт проявку Π½Π΅Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΠΉ, Π° слишком долгая ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Ρ‚ ΠΊ Ρ€Π°Π·ΠΌΡ‹Π²Π°Π½ΠΈΡŽ Π³Ρ€Π°Π½ΠΈΡ† Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ.

Для контроля качСства экспонирования часто ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ тСст-шаблон с Π½Π°Π±ΠΎΡ€ΠΎΠΌ Π»ΠΈΠ½ΠΈΠΉ Ρ€Π°Π·Π½ΠΎΠΉ ΡˆΠΈΡ€ΠΈΠ½Ρ‹. ПослС экспонирования шаблон удаляСтся, ΠΈ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π° Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π° ΠΊ проявкС.

πŸ“Š Каким источником ΡƒΠ»ΡŒΡ‚Ρ€Π°Ρ„ΠΈΠΎΠ»Π΅Ρ‚Π° Π²Ρ‹ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚Π΅ΡΡŒ?
Π‘ΠΎΠ»Π½Π΅Ρ‡Π½Ρ‹ΠΉ свСт
Π£Π€-Π»Π°ΠΌΠΏΠ° 395 Π½ΠΌ
Π£Π€-Π»Π°ΠΌΠΏΠ° 365 Π½ΠΌ
Π‘ΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Π°Ρ Π»Π°ΠΌΠΏΠ° для отвСрТдСния

ΠŸΡ€ΠΎΡΠ²ΠΊΠ° ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ маски

ПослС экспонирования Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΈΡ‚ΡŒ засвСчСнныС (ΠΈΠ»ΠΈ Π½Π΅ засвСчСнныС, Π² зависимости ΠΎΡ‚ Ρ‚ΠΈΠΏΠ° рСзиста) участки фотослоя. Для этого ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ раствор ΠΊΠ°Ρ€Π±ΠΎΠ½Π°Ρ‚Π° натрия. ΠŸΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡ проявки Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ΅Π½ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ Π²ΠΈΠ·ΡƒΠ°Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹ΠΌ: Π²Ρ‹ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ Π²ΠΈΠ΄Π΅Ρ‚ΡŒ, ΠΊΠ°ΠΊ рисунок проступаСт Π½Π° повСрхности ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρ‹.

ВрСмя Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΊΠΈ Π² проявитСлС строго Ρ€Π΅Π³Π»Π°ΠΌΠ΅Π½Ρ‚ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½ΠΎ. Если ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρƒ, ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ ΡΠΌΡ‹Ρ‚ΡŒΡΡ Ρ‡Π°ΡΡ‚ΡŒ Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½ΠΎΠ³ΠΎ слоя с Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ, Ρ‡Ρ‚ΠΎ ΠΏΡ€ΠΈΠ²Π΅Π΄Π΅Ρ‚ ΠΊ ΠΈΡ… Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΡŽ. Если Π½Π΅Π΄ΠΎΠ΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Ρ‚ΡŒ, Π² Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠ°Ρ… останутся остатки рСзиста, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ Π½Π΅ позволят качСствСнно Π·Π°Π»ΡƒΠ΄ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠΎΠ²Π΅Ρ€Ρ…Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ.

ПослС Π·Π°Π²Π΅Ρ€ΡˆΠ΅Π½ΠΈΡ проявки ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρƒ Ρ‚Ρ‰Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠΌΡ‹Π²Π°ΡŽΡ‚ Π²ΠΎΠ΄ΠΎΠΉ ΠΈ ΠΎΡΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ Π½Π° просвСт. Π›ΡŽΠ±Ρ‹Π΅ ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΡ‚Ρ€Π΅Ρ‰ΠΈΠ½Ρ‹ ΠΈΠ»ΠΈ нСплотности Π² маскС сСйчас β€” это нСвосполнимый Π±Ρ€Π°ΠΊ. На этом этапС Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ провСряСтся Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒ совмСщСния слоСв для двусторонних ΠΏΠ»Π°Ρ‚.

Π§Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Ρ‚ΡŒ, Ссли проявка ΠΏΡ€ΠΎΡˆΠ»Π° Π½Π΅ΡƒΠ΄Π°Ρ‡Π½ΠΎ?

Если Π²Ρ‹ случайно смыли Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠΈ, ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠΏΡ€ΠΎΠ±ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π²ΠΎΡΡΡ‚Π°Π½ΠΎΠ²ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΈΡ… ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ Ρ€ΡƒΡ‡Π½ΠΎΠΉ Π΄ΠΎΡ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠΈ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠΎΠ²Ρ‚ΠΎΡ€ΠΈΡ‚ΡŒ процСсс нанСсСния фотослоя с Π½Π°Ρ‡Π°Π»Π°, ΠΏΡ€Π΅Π΄Π²Π°Ρ€ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΈΠ² старый слой растворитСлСм.

Π₯имичСскоС Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ ΡƒΠ΄Π°Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ маски

Π’Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ β€” это процСсс удалСния Π½Π΅Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‰Π΅Π½Π½ΠΎΠΉ ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ с повСрхности ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρ‹. Π’ Π΄Π°Π½Π½ΠΎΠΉ Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Ρ‡Π°Ρ‰Π΅ всСго ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ раствор Ρ…Π»ΠΎΡ€Π½ΠΎΠ³ΠΎ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·Π° ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠ΅Ρ€ΡΡƒΠ»ΡŒΡ„Π°Ρ‚Π° аммония. Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Ρƒ раствора ΠΈ ΠΎΠ±Π΅ΡΠΏΠ΅Ρ‡ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ Π΅Π³ΠΎ ΠΏΠΎΡΡ‚ΠΎΡΠ½Π½ΡƒΡŽ Ρ†ΠΈΡ€ΠΊΡƒΠ»ΡΡ†ΠΈΡŽ для ускорСния процСсса.

ΠŸΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡ травлСния нСльзя ΠΏΡ€Π΅Ρ€Ρ‹Π²Π°Ρ‚ΡŒ Π½Π° ΠΏΠΎΠ»ΠΏΡƒΡ‚ΠΈ, Ρ‚Π°ΠΊ ΠΊΠ°ΠΊ это создаст Π½Π΅Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½ΡƒΡŽ Π³Π»ΡƒΠ±ΠΈΠ½Ρƒ вытравливания. ΠŸΠ»Π°Ρ‚Ρƒ Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ пСриодичСски Π²Ρ‹Π½ΠΈΠΌΠ°Ρ‚ΡŒ ΠΈ ΠΎΡΠΌΠ°Ρ‚Ρ€ΠΈΠ²Π°Ρ‚ΡŒ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΡƒΠ΄Π°Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ ΠΌΠ΅ΠΆΠ΄Ρƒ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠ°ΠΌΠΈ. Когда мСдь исчСзла ΠΏΠΎΠ»Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ, процСсс слСдуСт Π½Π΅ΠΌΠ΅Π΄Π»Π΅Π½Π½ΠΎ ΠΏΡ€Π΅ΠΊΡ€Π°Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ.

ПослС травлСния Π½Π΅ΠΎΠ±Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΠΌΠΎ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΈΡ‚ΡŒ Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½ΡƒΡŽ маску. Для этого ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ раствор Ρ‰Π΅Π»ΠΎΡ‡ΠΈ ΠΈΠ»ΠΈ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ смывки. Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΡƒΠ΄Π°Π»ΠΈΡ‚ΡŒ вСсь фоторСзист, ΠΈΠ½Π°Ρ‡Π΅ ΠΎΠ½ Π±ΡƒΠ΄Π΅Ρ‚ ΠΌΠ΅ΡˆΠ°Ρ‚ΡŒ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅ΠΌΡƒ Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΡŽ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠ°ΠΉΠΊΠ΅ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ². ΠžΡΡ‚Π°Π²ΡˆΠΈΠΉΡΡ рСзист ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ ΠΊΠΎΡ€Ρ€ΠΎΠ·ΠΈΠΈ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ Π² Π±ΡƒΠ΄ΡƒΡ‰Π΅ΠΌ.

β˜‘οΈ ΠšΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΡŒ процСсса травлСния

Π’Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½ΠΎ: 0 / 4

Π’Π°Π±Π»ΠΈΡ†Π° сравнСния ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ΠΎΠ² нанСсСния маски

Для наглядности сравним основныС ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ‹ примСнСния Ρ€Π°Π·Π»ΠΈΡ‡Π½Ρ‹Ρ… Ρ‚ΠΈΠΏΠΎΠ² фоторСзиста, ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅ΠΌΡ‹Ρ… Π² Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Брусницына. Π­Ρ‚ΠΎ ΠΏΠΎΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π²Ρ‹Π±Ρ€Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠΏΡ‚ΠΈΠΌΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ Π²Π°Ρ€ΠΈΠ°Π½Ρ‚ ΠΏΠΎΠ΄ ваши Π·Π°Π΄Π°Ρ‡ΠΈ.

Π’ΠΈΠΏ рСзиста Π’ΠΎΠ»Ρ‰ΠΈΠ½Π° слоя Π Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π‘Π»ΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ нанСсСния
Π‘ΡƒΡ…ΠΎΠΉ Ρ„ΠΎΡ‚ΠΎΠΏΠ»Π΅Π½ΠΎΡ‡Π½Ρ‹ΠΉ 25-50 ΠΌΠΊΠΌ 8-10 ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ½ БрСдняя (ламинация)
Π–ΠΈΠ΄ΠΊΠΈΠΉ фоторСзист 5-20 ΠΌΠΊΠΌ 5-7 ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ½ Высокая (Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€ΠΈΡ„ΡƒΠ³Π°)
ΠΡΡ€ΠΎΠ·ΠΎΠ»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ спрСй 10-30 ΠΌΠΊΠΌ (слоТно ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ) 15-20 ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ½ Низкая (пистолСт)
ΠŸΠΎΠ»ΠΈΠΌΠ΅Ρ€Π½Π°Ρ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ° (самоклСящаяся) 100+ ΠΌΠΊΠΌ 50-100 ΠΌΠΈΠΊΡ€ΠΎΠ½ Низкая (Π±Π΅Π· Π½Π°Π³Ρ€Π΅Π²Π°)
⚠️ Π’Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅: ΠŸΡ€ΠΈ использовании Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ² для травлСния ΠΈ проявки ΠΎΠ±ΡΠ·Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚Π°ΠΉΡ‚Π΅ Π² ΠΏΠ΅Ρ€Ρ‡Π°Ρ‚ΠΊΠ°Ρ… ΠΈ Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹Ρ… ΠΎΡ‡ΠΊΠ°Ρ…. Π₯Π»ΠΎΡ€Π½ΠΎΠ΅ ΠΆΠ΅Π»Π΅Π·ΠΎ ΠΈ ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Π½Π½Ρ‹Π΅ Ρ‰Π΅Π»ΠΎΡ‡ΠΈ ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ Π²Ρ‹Π·Π²Π°Ρ‚ΡŒ ΡΠ΅Ρ€ΡŒΠ΅Π·Π½Ρ‹Π΅ химичСскиС ΠΎΠΆΠΎΠ³ΠΈ ΠΊΠΎΠΆΠΈ ΠΈ Π³Π»Π°Π·.

Π›ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ Ρ„ΠΈΠ½ΠΈΡˆΠ½Π°Ρ ΠΎΠ±Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΊΠ°

Π€ΠΈΠ½Π°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ этап Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ Π² сСбя нанСсСниС припоя Π½Π° ΠΎΡ‚ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Ρ‹Π΅ ΠΌΠ΅Π΄Π½Ρ‹Π΅ ΠΏΠ»ΠΎΡ‰Π°Π΄ΠΊΠΈ ΠΈ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠΈ. Π­Ρ‚ΠΎ Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‰Π°Π΅Ρ‚ мСдь ΠΎΡ‚ окислСния ΠΈ ΠΎΠ±Π»Π΅Π³Ρ‡Π°Π΅Ρ‚ ΠΏΠ°ΠΉΠΊΡƒ ΠΊΠΎΠΌΠΏΠΎΠ½Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ². НаиболСС распространСнный ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ β€” горячСС Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π² ΠΏΡ€ΠΈΠΏΠΎΠ΅, Π½ΠΎ Π² Π΄ΠΎΠΌΠ°ΡˆΠ½ΠΈΡ… условиях часто ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ химичСскоС Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΎΠ΄ Β«ΠΏΠ°ΠΉΠΊΠΈ с Ρ„Π»ΡŽΡΠΎΠΌΒ».

ΠŸΡ€ΠΈ химичСском Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠΈ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π° погруТаСтся Π² ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹ΠΉ Ρ€Π΅Π°ΠΊΡ‚ΠΈΠ², ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹ΠΉ осаТдаСт Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΉ слой ΠΎΠ»ΠΎΠ²Π° Π½Π° мСдь. Π­Ρ‚ΠΎΡ‚ способ Π±ΠΎΠ»Π΅Π΅ бСзопасСн ΠΈ Π΄Π°Π΅Ρ‚ Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ΅ ΠΏΠΎΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚ΠΈΠ΅ Π±Π΅Π· риска ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π³Ρ€Π΅Π²Π° Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΡ… Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ. Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΊΠΎΠ½Ρ‚Ρ€ΠΎΠ»ΠΈΡ€ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ врСмя Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠΊΠΈ, Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ слой припоя Π½Π΅ Π±Ρ‹Π» слишком толстым.

ПослС луТСния ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π° моСтся ΠΈ ΡΡƒΡˆΠΈΡ‚ΡΡ. На этом этапС Ρ‚Π°ΠΊΠΆΠ΅ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ Π½Π°Π½ΠΎΡΠΈΡ‚ΡŒΡΡ Π·Π°Ρ‰ΠΈΡ‚Π½Ρ‹ΠΉ Π»Π°ΠΊ (маска), Ссли Π½Π΅ Π±Ρ‹Π»Π° использована засвСчСнная фоторСзистная маска Π²ΠΎ врСмя травлСния. ΠšΠ°Ρ‡Π΅ΡΡ‚Π²Π΅Π½Π½ΠΎ Π²Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½Π½ΠΎΠ΅ Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½ΠΎ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ блСстящим ΠΈ Π³Π»Π°Π΄ΠΊΠΈΠΌ, Π±Π΅Π· ΠΏΡ€ΠΎΠΏΠ»Π΅ΡˆΠΈΠ½.

πŸ’‘

ΠŸΡ€Π°Π²ΠΈΠ»ΡŒΠ½ΠΎ Π²Ρ‹ΠΏΠΎΠ»Π½Π΅Π½Π½ΠΎΠ΅ Π»ΡƒΠΆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ Π½Π΅ Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ ΡƒΠ»ΡƒΡ‡ΡˆΠ°Π΅Ρ‚ ΠΏΠ°ΡΠ΅ΠΌΠΎΡΡ‚ΡŒ, Π½ΠΎ ΠΈ Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠ΄Π»Π΅Π²Π°Π΅Ρ‚ срок слуТбы ΠΏΠ»Π°Ρ‚Ρ‹, прСдотвращая окислСниС ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ Π²ΠΎ Π²Π»Π°ΠΆΠ½ΠΎΠΉ срСдС.

ДвустороннСС ΠΈΠ·Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ ΠΈ совмСщСниС

Одной ΠΈΠ· ΡΠΈΠ»ΡŒΠ½Ρ‹Ρ… сторон Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ являСтся Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ изготовлСния двусторонних ΠΏΠ»Π°Ρ‚. Для этого трСбуСтся точная систСма совмСщСния (alignment). ΠžΠ±Ρ‹Ρ‡Π½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ΡΡ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ отвСрстия (мСТслойныС ΠΏΠ΅Ρ€Ρ„ΠΎΡ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ) ΠΈΠ»ΠΈ Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ с высокой Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΡΡ‚ΡŒΡŽ ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚ΠΈ шаблонов.

ΠŸΡ€ΠΎΡ†Π΅ΡΡ Π²ΠΊΠ»ΡŽΡ‡Π°Π΅Ρ‚ Π² сСбя нанСсСниС рСзиста Π½Π° ΠΎΠ±Π΅ стороны, экспонированиС Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· шаблон с ΡƒΡ‡Π΅Ρ‚ΠΎΠΌ смСщСния слоСв ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΡƒΡŽΡ‰Π΅Π΅ ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠ²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½Π½ΠΎΠ΅ ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΠΎΡΠ»Π΅Π΄ΠΎΠ²Π°Ρ‚Π΅Π»ΡŒΠ½ΠΎΠ΅ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅. Ошибка Π² совмСщСнии Π΄Π°ΠΆΠ΅ Π² 0,1 ΠΌΠΌ ΠΌΠΎΠΆΠ΅Ρ‚ привСсти ΠΊ Ρ€Π°Π·Ρ€Ρ‹Π²Ρƒ Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ, проходящих Ρ‡Π΅Ρ€Π΅Π· отвСрстия.

Для Ρ‚ΠΎΡ‡Π½ΠΎΠ³ΠΎ совмСщСния часто ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΡŽΡ‚ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½Ρ‹Π΅ ΠΌΠΎΠ½Ρ‚Π°ΠΆΠ½Ρ‹Π΅ отвСрстия, ΠΊΠΎΡ‚ΠΎΡ€Ρ‹Π΅ ΠΏΡ€ΠΎΠ±ΠΈΠ²Π°ΡŽΡ‚ΡΡ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π΄ всСми опСрациями. Π¨Π°Π±Π»ΠΎΠ½Ρ‹ для ΠΎΠ±Π΅ΠΈΡ… сторон Π΄ΠΎΠ»ΠΆΠ½Ρ‹ Π±Ρ‹Ρ‚ΡŒ Π½Π°ΠΏΠ΅Ρ‡Π°Ρ‚Π°Π½Ρ‹ Π½Π° ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ΅ ΠΈΠ»ΠΈ Π½Π° Π΄Π²ΡƒΡ… ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ°Ρ…, идСально совмСщСнных Π΄Ρ€ΡƒΠ³ с Π΄Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠΌ.

ЧастыС ошибки ΠΈ способы ΠΈΡ… устранСния

Π”Π°ΠΆΠ΅ ΠΏΡ€ΠΈ строгом соблюдСнии Ρ‚Π΅Ρ…Π½ΠΎΠ»ΠΎΠ³ΠΈΠΈ Π²ΠΎΠ·ΠΌΠΎΠΆΠ½Ρ‹ ошибки. НаиболСС частая ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΠ° β€” это Β«ΠΏΡ€ΠΎΠ±ΠΎΠΉΒ» Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠ΅ΠΊ, ΠΊΠΎΠ³Π΄Π° рСзист Π½Π΅ Π²Ρ‹Π΄Π΅Ρ€ΠΆΠ°Π» экспозиции. Π­Ρ‚ΠΎ Ρ€Π΅ΡˆΠ°Π΅Ρ‚ΡΡ ΡƒΠ²Π΅Π»ΠΈΡ‡Π΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ экспонирования ΠΈΠ»ΠΈ ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Ρ€ΠΊΠΎΠΉ источника Π£Π€-излучСния.

Π”Ρ€ΡƒΠ³ΠΎΠΉ распространСнной ошибкой являСтся Π½Π΅Ρ€Π°Π²Π½ΠΎΠΌΠ΅Ρ€Π½ΠΎΠ΅ Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅. Π­Ρ‚ΠΎ происходит ΠΈΠ·-Π·Π° застоя раствора ΠΈΠ»ΠΈ слишком высокой ΠΊΠΎΠ½Ρ†Π΅Π½Ρ‚Ρ€Π°Ρ†ΠΈΠΈ Ρ€Π΅Π°Π³Π΅Π½Ρ‚ΠΎΠ². РСгулярная Π·Π°ΠΌΠ΅Π½Π° раствора ΠΈ Π΅Π³ΠΎ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅ΠΌΠ΅ΡˆΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅ Ρ€Π΅ΡˆΠ°ΡŽΡ‚ эту ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΡƒ.

Π’Π°ΠΊΠΆΠ΅ стоит ΠΎΡ‚ΠΌΠ΅Ρ‚ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΡ€ΠΎΠ±Π»Π΅ΠΌΡ‹ с Π°Π΄Π³Π΅Π·ΠΈΠ΅ΠΉ фотослоя. Если рСзист отслаиваСтся, Π·Π½Π°Ρ‡ΠΈΡ‚, ΠΏΠΎΠ΄Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΊΠ° ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ Π±Ρ‹Π»Π° ΠΏΡ€ΠΎΠ²Π΅Π΄Π΅Π½Π° нСкачСствСнно. НСобходимо ΡƒΡΠΈΠ»ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΌΠ΅Ρ…Π°Π½ΠΈΡ‡Π΅ΡΠΊΡƒΡŽ очистку ΠΈ ΠΎΠ±Π΅Π·ΠΆΠΈΡ€ΠΈΠ²Π°Π½ΠΈΠ΅.

⚠️ Π’Π½ΠΈΠΌΠ°Π½ΠΈΠ΅: Π’ зависимости ΠΎΡ‚ ΠΏΠ°Ρ€Ρ‚ΠΈΠΈ Ρ…ΠΈΠΌΠΈΠΊΠ°Ρ‚ΠΎΠ² ΠΈ условий ΠΎΠΊΡ€ΡƒΠΆΠ°ΡŽΡ‰Π΅ΠΉ срСды (Ρ‚Π΅ΠΌΠΏΠ΅Ρ€Π°Ρ‚ΡƒΡ€Π°, Π²Π»Π°ΠΆΠ½ΠΎΡΡ‚ΡŒ), ΠΏΠ°Ρ€Π°ΠΌΠ΅Ρ‚Ρ€Ρ‹ экспонирования ΠΈ травлСния ΠΌΠΎΠ³ΡƒΡ‚ ΠΌΠ΅Π½ΡΡ‚ΡŒΡΡ. ВсСгда ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚Π΅ тСстовоС Ρ‚Ρ€Π°Π²Π»Π΅Π½ΠΈΠ΅ Π½Π° ΠΎΠ±Ρ€Π°Π·Ρ†Π΅ ΠΏΠ΅Ρ€Π΅Π΄ основной Ρ€Π°Π±ΠΎΡ‚ΠΎΠΉ.
Как ΠΈΡΠΏΡ€Π°Π²ΠΈΡ‚ΡŒ Π΄Π΅Ρ„Π΅ΠΊΡ‚ Π½Π° Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π΅?

Если Π½Π° Π³ΠΎΡ‚ΠΎΠ²ΠΎΠΉ ΠΏΠ»Π°Ρ‚Π΅ ΠΎΠ±Π½Π°Ρ€ΡƒΠΆΠ΅Π½ ΠΎΠ±Ρ€Ρ‹Π² Π΄ΠΎΡ€ΠΎΠΆΠΊΠΈ, Π΅Π³ΠΎ ΠΌΠΎΠΆΠ½ΠΎ Π²ΠΎΡΡΡ‚Π°Π½ΠΎΠ²ΠΈΡ‚ΡŒ Ρ‚ΠΎΠ½ΠΊΠΈΠΌ ΠΏΡ€ΠΎΠ²ΠΎΠ΄ΠΎΠΌ. Для Ρ‚ΠΎΡ‡Π΅Ρ‡Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΎΠ±ΠΎΠ΅Π² (Π·Π°ΠΌΡ‹ΠΊΠ°Π½ΠΈΠΉ) ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΡƒΠ΅Ρ‚ΡΡ Π»Π΅Π·Π²ΠΈΠ΅ ΠΈΠ»ΠΈ скальпСль для удалСния лишнСй ΠΌΠ΅Π΄ΠΈ, Π»ΠΈΠ±ΠΎ ΠΏΡ€ΠΎΠΆΠΈΠ³Π°Π½ΠΈΠ΅ Π»Π°Π·Π΅Ρ€ΠΎΠΌ.

МоТно Π»ΠΈ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΠΎΠ±Ρ‹Ρ‡Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ для шаблона?

Π”Π°, Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹ΠΉ ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ с высоким Ρ€Π°Π·Ρ€Π΅ΡˆΠ΅Π½ΠΈΠ΅ΠΌ (1200 dpi ΠΈ Π²Ρ‹ΡˆΠ΅) ΠΎΡ‚Π»ΠΈΡ‡Π½ΠΎ ΠΏΠΎΠ΄Ρ…ΠΎΠ΄ΠΈΡ‚. Π’Π°ΠΆΠ½ΠΎ ΠΈΡΠΏΠΎΠ»ΡŒΠ·ΠΎΠ²Π°Ρ‚ΡŒ ΡΠΏΠ΅Ρ†ΠΈΠ°Π»ΡŒΠ½ΡƒΡŽ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΡƒ для Π»Π°Π·Π΅Ρ€Π½Ρ‹Ρ… ΠΏΡ€ΠΈΠ½Ρ‚Π΅Ρ€ΠΎΠ², Ρ‡Ρ‚ΠΎΠ±Ρ‹ Ρ‚ΠΎΠ½Π΅Ρ€ Π½Π΅ плавился ΠΈ Π½Π΅ растСкался.

Π§Ρ‚ΠΎ Π΄Π΅Π»Π°Ρ‚ΡŒ, Ссли фоторСзист засвСтился Ρ€Π°Π½ΡŒΡˆΠ΅ Π²Ρ€Π΅ΠΌΠ΅Π½ΠΈ?

Если ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΠ° Π±Ρ‹Π»Π° ΠΎΡ‚ΠΊΡ€Ρ‹Ρ‚Π° Π² свСту, ΠΎΠ½Π° становится Π½Π΅ΠΏΡ€ΠΈΠ³ΠΎΠ΄Π½ΠΎΠΉ для использования. НСобходимо нанСсти Π½ΠΎΠ²Ρ‹ΠΉ слой рСзиста. Π₯Ρ€Π°Π½ΠΈΡ‚ΡŒ ΠΏΠ»Π΅Π½ΠΊΡƒ слСдуСт Ρ‚ΠΎΠ»ΡŒΠΊΠΎ Π² Π½Π΅ΠΏΡ€ΠΎΠ·Ρ€Π°Ρ‡Π½ΠΎΠΉ ΡƒΠΏΠ°ΠΊΠΎΠ²ΠΊΠ΅ Π² Ρ‚Π΅ΠΌΠ½ΠΎΠΌ мСстС.